The Continuous Flow Ultrasonic Reactor (CFUR) integrates the cavitation effect of ultrasound with continuous flow chemistry, significantly enhancing the efficiency and controllability of nanomaterial synthesis, dispersion, and surface modification. Compared to traditional batch processing, it has notable advantages in operation mode, reaction outcome, and parameter regulation.
- Pouvwa a ultrasons chenn nan 50-3000 w
- Frekans: 20 kHz
- Tanperati: -40 a 200 degre (ekstèn sikile beny)
- Presyon: 0.1-10 ba (kontwole pa valv la presyon tounen)
Avantaj ki genyen nan lè l sèvi avèk yon kontinyèl reaktè ultrasons pou pwosesis solisyon nano
Kontwòl egzak nan gwosè nanoparticle (paramèt kle: pouvwa ultrasons, frekans, tan)
- Ultrasonic pouvwa (50-2000 w):
Ba pouvwa (50-300 w): apwopriye pou dispèsyon dou (tankou grafèn èksfolyasyon), evite twòp fwagmantasyon .
Segondè pouvwa (500-2000 w): Li ka efektivman diminye gwosè patikil (tankou kraze micron ki menm gwosè ak sio₂ a 50-100 nm) .
- Seleksyon frekans (20 kHz - 1 MHz):
Low frekans (20-50 kHz): bul yo cavitation yo relativman gwo, ki se apwopriye pou fwagmantasyon nan patikil gwo (tankou izolman nan pake nanotub kabòn) .
Segondè frekans (400 kHz - 1 MHz): jenere ti bul cavitation, apwopriye pou nanoemulsions amann (tankou preparasyon liposome) .
- Tan pwosesis (1-60 minit):
Yon kout peryòd de tan (1-10 minit) ka anpeche sou-fanm k'ap pile, pandan y ap yon peryòd tan ki long (30-60 minit) ka amelyore estabilite nan dispèsyon .
Ka Endistriyèl:
Nano-seramik sispansyon: kontinyèl tretman ultrasons nan 20 kHz ak 10 kW se te adopte, ak yon kapasite pwodiksyon nan 200 L/h ak patikil inifòmite (D90<1 μm).
Nano Pestisid Sispansyon: dispèsyon ultrasons diminye gwosè a patikil nan engredyan aktif la soti nan 5 μm a 200 nm, ak ogmante byodisponibilite a pa 30%.
| Modèl | Gk -10 l | Gk -20 l | Gkf -50 l | Gk -100 l | Gk -200 l |
| Volim | 10L | 20L | 50L | 100L | 200L |
| Volim Jackey | ≈2L | ≈5L | ≈15L | ≈20L | ≈40L |
Detay Ekipman
